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日本東北大學大學院工學研究科納米力學專業閻紀旺準教授及廚川常元教授的研究小組利用納秒脈沖激光照射，成功完成了單晶硅加工變質層的完全修復。這是一種通過使用高頻納秒脈沖激光，同時完全消滅單晶硅加工物表面的非結晶層的單晶化和位錯的方法。該方法有以下四個特征。（1）由于絲毫不剔除材料，底板的形狀精度可維持原樣；（2）可使用高頻納秒脈沖激光器在極短時間內修復；（3）完全不排放化學廢液，是對環境無負面影響的清潔技術；（4）能夠用于形狀復雜的工件，進行局部選擇性修復和表面構成控制。
該方法可以使生成無缺陷的單結晶表面成為可能，有望在半導體底板及光學元件領域，實現新的制造工藝。是東北大學機械系研究的文部科學省21世紀COE項目之一――“納米技術基礎機械科學新領域”（項目負責人：莊子哲雄教授）的綜合研究項目之一，部分研究得到了新能源產業技術綜合開發機構（NEDO）產業技術研究資助事業的幫助。研究成果的一部分已在國際學術雜志《半導體科學與技術（SemiconductorScienceandTechnology）》上刊登。
北京市公安局海淀分局備案號：11010802023656號