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資訊頻道高純凈水系統(tǒng)集成氧化還原電位測量能力以減少腐蝕
中國，北京，2010年2月9日-霍尼韋爾(NYSE:HON)今日宣布為其HPW7000 高純凈水測量系統(tǒng)增加氧化還原電位(ORP)測量功能，氧化還原電位是針對降低諸如渦輪和管道等電廠設(shè)備腐蝕的關(guān)鍵參數(shù)，這將幫助工廠更加有效地維護關(guān)鍵設(shè)備，降低資產(chǎn)支出并減少化學(xué)品使用。
HPW7000廣泛應(yīng)用于市政鍋爐供水系統(tǒng)以及使用自備電廠的大型生產(chǎn)企業(yè)。其特別設(shè)計的流室以及電極安裝已經(jīng)應(yīng)用了超過10年以簡化安裝和校準，并提供高精度PH值讀數(shù)。新增的氧化還原電位電極能夠為工廠化學(xué)工程師、工廠經(jīng)理、維護工程師以及安全和可靠性工程師在高純凈水系統(tǒng)(水樣本電導(dǎo)率低于10 uS/cm)中提供更加精準的氧化還原程度的界面。
霍尼韋爾全球產(chǎn)品市場經(jīng)理托馬斯·格里菲斯(Thomas Griffiths)指出：“在這些應(yīng)用中，可靠的氧化還原電位程度測量在過去是非常復(fù)雜的，但如果工廠能夠使用這些數(shù)據(jù)來保持供水系統(tǒng)中最優(yōu)反應(yīng)物程度的話，將有效降低腐蝕。集成氧化還原電位技術(shù)到HPW7000易用設(shè)計之中，將最終減少維護需求并提升工廠正常運轉(zhuǎn)時長。”
北京市公安局海淀分局備案號：11010802023656號