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資訊頻道高純凈水系統(tǒng)集成氧化還原電位測量能力以減少腐蝕
中國，北京，2010年2月9日-霍尼韋爾(NYSE:HON)今日宣布為其HPW7000 高純凈水測量系統(tǒng)增加氧化還原電位(ORP)測量功能，氧化還原電位是針對降低諸如渦輪和管道等電廠設備腐蝕的關鍵參數(shù)，這將幫助工廠更加有效地維護關鍵設備，降低資產(chǎn)支出并減少化學品使用。
HPW7000廣泛應用于市政鍋爐供水系統(tǒng)以及使用自備電廠的大型生產(chǎn)企業(yè)。其特別設計的流室以及電極安裝已經(jīng)應用了超過10年以簡化安裝和校準，并提供高精度PH值讀數(shù)。新增的氧化還原電位電極能夠為工廠化學工程師、工廠經(jīng)理、維護工程師以及安全和可靠性工程師在高純凈水系統(tǒng)(水樣本電導率低于10 uS/cm)中提供更加精準的氧化還原程度的界面。
霍尼韋爾全球產(chǎn)品市場經(jīng)理托馬斯·格里菲斯(Thomas Griffiths)指出：“在這些應用中，可靠的氧化還原電位程度測量在過去是非常復雜的，但如果工廠能夠使用這些數(shù)據(jù)來保持供水系統(tǒng)中最優(yōu)反應物程度的話，將有效降低腐蝕。集成氧化還原電位技術到HPW7000易用設計之中，將最終減少維護需求并提升工廠正常運轉時長。”
北京市公安局海淀分局備案號：11010802023656號