光刻機(jī)行業(yè)報(bào)告:從0到1,星辰大海
- 點(diǎn)擊數(shù):952 發(fā)布時(shí)間:2023-04-12 19:36:36
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光刻機(jī)是芯片制造中最復(fù)雜、最昂貴的設(shè)備。芯片制造可以包括多個(gè)工藝,如初步氧化、涂光刻膠、曝光、顯影、刻蝕、離子注入。這個(gè)過(guò)程需要用到的設(shè)備種類繁多,包括氧化爐、涂膠顯影機(jī)、光刻機(jī)、薄膜沉積設(shè)備、刻蝕機(jī)、離子注入機(jī)、拋光設(shè)備、清洗設(shè)備和檢測(cè)設(shè)備等。在整個(gè)半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中,光刻是最復(fù)雜工藝,光刻工藝的費(fèi)用約占芯片制造成本的1/3左右,耗費(fèi)時(shí)間占比約為40-50%,光刻工藝所需的光刻機(jī)是最貴的半導(dǎo)體設(shè)備。
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