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資訊頻道來源：新華社
新華社成都３月２３日電記者２３日從中科院光電技術研究所獲悉，該所微電子專用設備研發(fā)團隊自主研制成功紫外納米壓印光刻機。
據(jù)中科院光電所微電子裝備總體研究室主任胡松介紹，該所自主研發(fā)的新型光刻機，將納米壓印這一新型高分辨力光刻技術，與具有低成本、高效率特點的紫外光刻技術有機結(jié)合。
記者了解到，這套設備采用新型納米對準技術，將原光刻設備的對準精度由亞微米量級提升至納米量級。對準是光刻設備三大核心指標之一，是實現(xiàn)功能化器件加工的關鍵。該所在國家自然基金的連續(xù)資助下，完成基于莫爾條紋的高精度對準技術自主研發(fā)，取得專利２０余項。
“該技術在光刻機中的成功應用突破了現(xiàn)有納米尺度結(jié)構(gòu)加工的瓶頸問題，為高精度納米器件的加工提供了技術保障。”胡松說。
據(jù)悉，該設備可廣泛應用于微納流控芯片加工、微納光學元件、微納光柵、ＮＭＥＭＳ器件等微納結(jié)構(gòu)器件的制備，具有廣闊的應用前景，目前已完成初試和小批生產(chǎn)，并已在高校與企業(yè)用戶中推廣。
北京市公安局海淀分局備案號：11010802023656號