在國新辦日前舉行的新聞發(fā)布會上，科技部相關(guān)負(fù)責(zé)人指出，我國創(chuàng)新指標(biāo)在全球排名已經(jīng)從2012年的第34位躍升到2022年的第11位，順利進(jìn)入了創(chuàng)新型國家行列。我國科技實(shí)力的顯著增強(qiáng)，為下一個(gè)階段我國邁向創(chuàng)新型國家打下了基礎(chǔ)。如何進(jìn)一步優(yōu)化科技力量重大科技創(chuàng)新布局，提升我國的科技實(shí)力，意義重大。
當(dāng)前，隨著黨中央加強(qiáng)對科技工作的集中統(tǒng)一領(lǐng)導(dǎo)，國家戰(zhàn)略科技力量的統(tǒng)籌布局將持續(xù)得到強(qiáng)化。這更加有利于我們在恪守定位、履行使命的基礎(chǔ)上，以國家戰(zhàn)略科技任務(wù)為牽引，聚焦復(fù)雜科技目標(biāo)，充分發(fā)揮各自優(yōu)勢。同時(shí)，這也打破主體、領(lǐng)域、行業(yè)等界限，避免各自為戰(zhàn)、低效競爭，真正形成強(qiáng)有力的系統(tǒng)集成、協(xié)同作戰(zhàn)能力。不久前印發(fā)的《黨和國家機(jī)構(gòu)改革方案》，明確提出加強(qiáng)黨中央對科技工作的集中統(tǒng)一領(lǐng)導(dǎo)，組建中央科技委員會，重新組建科學(xué)技術(shù)部。這是黨中央、國務(wù)院根據(jù)國內(nèi)外形勢變化和科技發(fā)展需要作出的重大戰(zhàn)略決策。
不過，眼下我國面臨的國際科技競爭和外部遏制打壓形勢依然嚴(yán)峻。要在激烈的國際競爭中贏得更多的主動權(quán)、優(yōu)先權(quán)，亟需進(jìn)一步加強(qiáng)我國科技創(chuàng)新的頂層設(shè)計(jì)、系統(tǒng)謀劃，不斷優(yōu)化重大科技創(chuàng)新布局，把有限的資源聚焦到最重要、最急需的科技任務(wù)上，集中力量、加速突破。
優(yōu)化重大科技創(chuàng)新布局，需要重點(diǎn)回答好“干什么”和“誰來干”這兩個(gè)問題。“干什么”主要涉及科研選題布局。科研選題是科技工作首先需要解決的問題。方向?qū)α耍趴赡苁掳牍Ρ丁！罢l來干”則需要優(yōu)化國家戰(zhàn)略科技力量的定位與布局，堅(jiān)持“四個(gè)面向”，統(tǒng)籌發(fā)展和安全，兼顧當(dāng)前與長遠(yuǎn)，真正解決實(shí)際問題。
立足當(dāng)前，就是要從國家亟需解決的問題出發(fā)，圍繞保障糧食、能源和重要產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈安全，加快攻克“卡脖子”難題。比如，集成電路領(lǐng)域的EUV和DUV光刻機(jī)關(guān)鍵技術(shù)、EDA基礎(chǔ)軟件等，能源資源領(lǐng)域的油氣勘探開發(fā)、戰(zhàn)略性礦產(chǎn)資源增儲利用技術(shù)等，生物技術(shù)領(lǐng)域的重要工業(yè)菌種、高端試劑和高端醫(yī)療設(shè)備等。這幾年，我國持續(xù)推進(jìn)關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān)，在中端技術(shù)突破上已經(jīng)初見成效，但高端技術(shù)差距仍然顯著，一些重要領(lǐng)域的技術(shù)經(jīng)濟(jì)安全風(fēng)險(xiǎn)仍存，亟待補(bǔ)齊短板。
著眼長遠(yuǎn)，就是要在事關(guān)未來發(fā)展的戰(zhàn)略性領(lǐng)域，以搶占科技制高點(diǎn)為目標(biāo)，前瞻部署更多顛覆性變革性技術(shù)，開辟發(fā)展新領(lǐng)域新賽道。比如，在集成電路領(lǐng)域，除了“延續(xù)摩爾”補(bǔ)短板，更要“超越摩爾”實(shí)現(xiàn)換道超車，加快對非硅、非馮芯片、光電子芯片、量子集成電路等系統(tǒng)部署；在糧食安全方面，要加快從育種2.0和3.0邁向育種4.0時(shí)代。只有在未來技術(shù)發(fā)展上搶奪了先機(jī)，才能真正為我國實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量發(fā)展、構(gòu)建新發(fā)展格局提供強(qiáng)大動力。
進(jìn)一步而言，我們遇到的許多重大科技問題，難以依靠某一個(gè)創(chuàng)新單元獨(dú)自解決，需要國家科研機(jī)構(gòu)、高水平研究型大學(xué)、科技領(lǐng)軍企業(yè)等不同戰(zhàn)略科技力量分工合作、協(xié)同發(fā)力。比如，制造光刻機(jī)更多需要企業(yè)來“出題”“答題”，但是光刻機(jī)組裝涵蓋上十萬個(gè)精密零部件，底層技術(shù)涉及多個(gè)學(xué)科，其中光學(xué)光源等一些關(guān)鍵核心技術(shù)的突破離不開國家科研機(jī)構(gòu)等力量的長期積累和底層原理支撐，對此須采取建制化科研組織方式，實(shí)現(xiàn)跨機(jī)構(gòu)、跨學(xué)科、跨團(tuán)隊(duì)深度合作，推動我國科技創(chuàng)新高質(zhì)量發(fā)展。
來源：《經(jīng)濟(jì)日報(bào)》
